等離子表面處理設(shè)備去除表面污染物用什么氣體？等離子表面處理機(jī)在清洗過(guò)程中配合不同的氣體，其清洗殘留物臟污效果也有很大差異。其中常用的一種氣體是惰性氣體氬氣(Ar)，真空設(shè)備清洗過(guò)程中與氬氣配合往往能有效地去除表面納米級(jí)污染物。
等離子表面處理機(jī)，若要加強(qiáng)蝕刻作用，可以通入氧氣(O2)，可以有效地去除有機(jī)污染物，例如光刻膠等。還有些氫氣(H2)可與其他較難去除的氧化物結(jié)合使用，一般會(huì)選擇氫氮混合氣體(95%的氮和5%的氫氣結(jié)合)。
使用為廣泛的氣體是氮(N2)，其生產(chǎn)成本低。該氣體主要與在線式等離子表面處理機(jī)技術(shù)相結(jié)合，用于材料的表面活化改性。在真空環(huán)境下也能使用。氮(N2)是改善材料表面浸潤(rùn)性能很好的氣體。
此外，還存在與四氟化碳(CF4)、六氟化硫(SF6)等類(lèi)似的特殊氣體，等離子表面處理機(jī)使用這些氣體對(duì)有機(jī)物的蝕刻和去除作用更為顯著。但是這些氣體的使用前提是必須具有很好的防腐蝕的氣路結(jié)構(gòu)，另外自身必須戴上防護(hù)罩和手套才能正常工作，雖然說(shuō)不會(huì)有什么危險(xiǎn)但是防護(hù)還是要做足的。等離子表面處理設(shè)備去除表面污染物用什么氣體？00224762