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如前文所述，防腐涂料 附著力劃算法HBr/O2對N型摻雜多晶硅的蝕刻率比未慘雜多晶硅高20%，極易產(chǎn)生縮脖效應，因此 HBr/O2的過蝕刻量要嚴格控制，一般以30%為宜，過少的過蝕刻量會導致多晶硅柵側壁底部長腳(Footing)，過多的過蝕刻量會導致上部縮脖效應加劇。 等離子表面處理機過蝕刻步驟盡管采用具有針對柵氧化硅較高蝕刻選擇比的HBr/O2蝕刻工藝，仍然容易導致硅穿孔(Pitting)及硅損傷。

涂料 附著力 分級

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一般來講，的真空plasma表面處理設備所使用的真空泵組分為三大類，一類是旋片真空泵加羅茨真空泵的油式泵組；另一類是螺桿真空泵+羅茨真空泵的干式泵組；還有一類是分子泵加分子泵的機械泵組。大腔體的真空型表面等離子處理設備機需采用真空泵組，并且真空泵組的選擇也十分講究，如果想了解產(chǎn)品的詳細內(nèi)容或在設備使用方面有任何疑問，歡迎點擊 在線客服咨詢， 恭候您的來電！。

2.自由電子的能量由其速度V決定，從原子和分子的內(nèi)部結構分析，根據(jù)量子力學原理，它們可以處于大量不同能態(tài)中的任意一種，這些能態(tài)可以按照能量的大小排列成能級圖。3.原子的能級圖是由原子內(nèi)部的所有粒子決定的。未受擾動的原子和分子一般處于最穩(wěn)定的基態(tài)能級，但我們只對最外層電子即價電子的能量感興趣，因為這些電子主要參與氣體放電過程。價電子從外界得到額外的能量，它可以躍遷到更高能級，原子處于激發(fā)態(tài)。

因為功率規(guī)模基本穩(wěn)定，頻率是影響等離子體自偏壓的關鍵參數(shù)，跟著頻率的添加自偏壓逐漸下降。此外，跟著頻率的添加等離子體中電子的密度也會逐漸添加，而粒子均勻能量逐漸下降。 2.4作業(yè)氣體的挑選對等離子清洗效果的影響工藝氣體的挑選是等離子清洗工藝規(guī)劃的關鍵步驟，盡管很多時分大多數(shù)氣體或氣體混合物都能對污染物起到去除效果，但清洗速度卻能相差幾倍甚至幾十倍。

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