等離子體射流還具有機(jī)械沖擊力，激光融覆對(duì)材料的表面改性起到擦洗作用，使玻璃表面的污染物迅速與表面分離，達(dá)到高效清洗的目的。常壓等離子體清洗機(jī)的特點(diǎn)；可配置多種型號(hào)的等離子噴嘴，適用于不同場(chǎng)合，滿足各種不同的產(chǎn)品和加工環(huán)境；等離子設(shè)備體積小，攜帶方便；直列式安裝在客戶設(shè)備生產(chǎn)線上，降低投入成本；等離子清洗機(jī)使用壽命長(zhǎng)，維護(hù)費(fèi)用低。。常壓等離子清洗機(jī)噴涂技術(shù)是最靈活的熱噴涂技術(shù)之一，能產(chǎn)生足夠的能量熔化材料。

等離子體清洗，表面改性技術(shù)的缺點(diǎn)只要對(duì)樣品表面進(jìn)行處理，一般在2S內(nèi)即可達(dá)到效果。可與原生產(chǎn)線配套，實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)在線生產(chǎn)，節(jié)省人力成本。處理效果是穩(wěn)定的。等離子體清洗處理效果非常均勻、穩(wěn)定，常規(guī)樣品處理后長(zhǎng)期保持效果良好。真空式等離子處理系統(tǒng)設(shè)備參數(shù)：射頻電源功率（RF Power）：600W/13.56MHz。(2)真空泵：有多種類型的真空泵，其選用都會(huì)根據(jù)用戶真空度、體積要求進(jìn)行配置。

實(shí)踐證明，激光融覆對(duì)材料的表面改性確保產(chǎn)品和設(shè)備的安全加工尤為重要。高度工程化的聚合物，如PS(聚苯乙烯)，PEEK(聚醚酮)或PC(聚碳酸酯)通常在制造過程中進(jìn)行處理。等離子體處理大板，低壓技術(shù)為各種材料，特別是塑料的預(yù)處理提供了有效的解決方案。塑料表面等離子體處理器可用于清潔和激活塑料表面。這種等離子清潔器用于加工塑料，塑料可以組裝成任意寬度。塑料等離子處理器的特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì):對(duì)原材料進(jìn)行廣泛的表面處理，提高附著力。

在激光陀螺制造中，激光融覆對(duì)材料的表面改性反射鏡片硅片的加工質(zhì)量直接反應(yīng)鍍膜后反射鏡片的光學(xué)性能和光學(xué)元件間的光膠質(zhì)量，進(jìn)而反應(yīng)陀螺的準(zhǔn)確度穩(wěn)定性和可靠性。 目前，超光滑表面主要是通過拋光獲得，由于加工特性及環(huán)境因素，拋光后的超光滑表面吸附有大量顆粒有機(jī)質(zhì)等污染物，并且通過瀝青拋光工藝獲得的光學(xué)表面是一個(gè)“偽表面”，即存在加工變質(zhì)層，它是由流變層損傷層及水解物層等構(gòu)成的。

表面改性技術(shù)的缺點(diǎn)

這種清洗方法屬于環(huán)保綠色清洗方法，因?yàn)橛泻θ軇┛梢苑乐骨逑春笥泻ξ廴疚锏漠a(chǎn)生。隨著世界對(duì)環(huán)境保護(hù)的極大興趣，這一點(diǎn)變得越來越重要。第四，無線電范圍內(nèi)的高頻產(chǎn)生的等離子體不同于激光等直射光。等離子的方向不強(qiáng)，深入到微小的孔洞和凹陷的物體內(nèi)部完成清洗工作，所以不需要考慮被清洗物體的形狀。此外，這些難清洗部位的清洗效果等同于或優(yōu)于氟利昂清洗。五。等離子清洗可用于顯著提高清洗效率。

等離子真空與濕法清洗相比，等離子清洗的優(yōu)勢(shì)體現(xiàn)在以下七個(gè)方面。 1.等離子清洗后，清洗后的物體非常干燥，無需干燥即可送入下一道工序。 2、不使用ODS的有害溶劑，清洗后不產(chǎn)生有害污染物。一種環(huán)保的綠色清潔方法。 3.在無線電范圍內(nèi)產(chǎn)生的高頻等離子體不具有很強(qiáng)的方向性，不像激光等直射光。因此，它可以深入到物體的小孔和凹痕中進(jìn)行清潔工作。

基于生理反應(yīng)的等離子體清洗,也稱為濺射腐蝕(SPE)或離子銑(IM),其優(yōu)點(diǎn)是沒有化學(xué)反應(yīng)本身,清潔表面不會(huì)留下任何氧化,可以維護(hù)清潔的化學(xué)純度,腐蝕各向異性;缺點(diǎn)是表面造成極大的破壞,產(chǎn)生很大的熱效應(yīng)，對(duì)清洗表面各種不同物質(zhì)的選擇性差，腐蝕速度慢。基于化學(xué)反應(yīng)的等離子體清洗的優(yōu)點(diǎn)是清洗速度快，選擇性好，對(duì)有機(jī)污染物的去除更有效，缺點(diǎn)是表面會(huì)產(chǎn)生氧化物。與物理反應(yīng)相比，化學(xué)反應(yīng)不易克服。

表面淬火處理后進(jìn)行微機(jī)械加工處理的目的是去除表面淬火處理后工件表面的氧化皮，為后續(xù)低溫滲氮工藝鋪平道路，改善滲氮層與基體的結(jié)合，提高滲氮層質(zhì)量。為了克服上訴的缺點(diǎn)，研究人員開發(fā)了一種低壓等離子體，當(dāng)氣壓低于1在0Pa時(shí)，不會(huì)出現(xiàn)異常輝光放電。等離子體可以通過射頻激勵(lì)微波或熱燈絲釋放高能電子的激波電離產(chǎn)生。這些低壓等離子體充滿了整個(gè)處理空間，包括大量的活性原子，將提高氮化效率。

表面改性技術(shù)的缺點(diǎn)

濕法蝕刻技術(shù)將聲波能量均勻分布在基板表面，表面改性技術(shù)的缺點(diǎn)提高分布能量以支持理想的清潔并確保樣品損傷閾值在范圍內(nèi)。該系統(tǒng)具有重現(xiàn)性高、均勻性好、Z級(jí)先進(jìn)的兆聲波清洗、兆聲波輔助光刻膠剝離和濕法刻蝕等特點(diǎn)。產(chǎn)品可按工藝步驟進(jìn)行無損檢測(cè)、化學(xué)試劑清洗、刷洗、烘干等。兩種濕法和等離子清洗劑干法蝕刻方法的優(yōu)缺點(diǎn)比較：傳統(tǒng)的濕法蝕刻系統(tǒng)是通過化學(xué)蝕刻溶液和被蝕刻物體之間的化學(xué)反應(yīng)分離的蝕刻方法。濕法刻蝕多為各向同性刻蝕，不易控制。

等離子清洗機(jī)不需要添加化學(xué)品。等離子清洗后，激光融覆對(duì)材料的表面改性清洗后的物體非常干燥，無需進(jìn)一步干燥即可送入下一道工序。等離子清洗機(jī)/等離子蝕刻機(jī)/等離子處理器/等離子脫膠機(jī)/等離子表面處理機(jī)，等離子清洗機(jī)，蝕刻表面改性等離子清洗機(jī)有好幾個(gè)稱謂，英文名稱（plasma cleaner）又稱等離子清洗機(jī)、等離子清洗機(jī)、等離子清洗設(shè)備、等離子蝕刻機(jī)、等離子表面處理機(jī)、等離子清洗機(jī)、等離子清洗機(jī)、等離子脫膠機(jī)、等離子清洗設(shè)備。