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在實際的雜質微粒去除過程中，噴塑附著力檢測設備要通過控制對元件表面和焦點之間的距離，使等離子體沖擊波的應力保持在小于材料的斷裂且大于微粒的剝離力這個范圍內，來實現(xiàn)對表面雜質微粒有效去除。。等離子體滲氮設備工藝技術原理： 普通等離子體氮化工藝要求氣體壓力為3~10mbar，以保證等離子體與基底的完全接觸。
阻抗匹配常見于真空等離子清洗機設備上，噴塑附著力檢測設備設備的反應腔體、電極和等離子發(fā)生器統(tǒng)稱為負載，在帶負載的直流回路中，外電路的負載電阻與電源內阻相等是負載匹配一個必要條件。直流回路的這一Z大功率定理在相應的交流回路中也存在。下圖為大家列舉了一個具有負載阻抗z的高頻回路。
低溫等離子清洗是一種干式工藝，不磷化噴塑附著力有影響嗎由于采用電能催化反應，可以提供一個低溫環(huán)境，同時排除了濕式化學清洗所產生的危險和廢液、穩(wěn)定、可靠、環(huán)保。簡而言之，低溫等離子清洗技術結合了等離子體物理、等離子體化學和氣固兩相界面反應，可以去除殘留在材料表面的有（機）污染物，并保證材料的表面及本體特性不受影響，目前被考慮為傳統(tǒng)濕法清洗的主要替代技術。
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微波等離子清洗機，設備結構由五部分組成：外殼框架系統(tǒng)、微波放電系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng)。其清洗過程是：在真空腔內壓力到達一定范圍時充入工藝氣體,當腔內壓力為動態(tài)平衡時，利用微波源振蕩產生的高頻交變電磁場將氧、氬、氫等工藝氣體電離，生成等離子體，活性等離子體對被清洗物進行物理轟擊與化學反應雙重作用，使被清洗物表面物質變成粒子和氣態(tài)物質，經過抽真空排出，而達到清洗目的。
按不同的清潔材料，可分別使用氧氣、氬氣、氫氣、氮氣、四氟化碳等氣體。3)真空室內電極與接地設備間施加高頻電壓，使氣體被擊穿，并發(fā)生輝光放電，產生等離子體，使真空室內產生的等離子體完全覆蓋被處理的工件，開始清洗作業(yè)，一般清洗處理持續(xù)時間從幾十秒至幾分鐘不等。4)清潔完畢后，切斷電源，通過真空泵把氣體和氣化的污垢排出。
如圖1-1所示。，半徑稱為德拜球&RDQUO ;.德拜球外的庫侖勢可以忽略不計。引述德拜長度的物理意義如下：（1）等離子體對作用在其上的電位有屏蔽作用。（2）德拜長度是一個小的空間尺度. 等離子體的電中性成立。如果R>D，則等離子體是電中性的((2)。3) 德拜長度是等離子體宏觀空間尺度的下限，即空間存在規(guī)模。等離子 L >> & LAMBDA; D.。氣體的類型對等離子體的狀態(tài)起著決定性的作用。
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