挑戰(zhàn)在于化學(xué)銅沉積之前對(duì) PTFE 的活化（化學(xué)）預(yù)處理，載玻片等離子體表面清洗器這也是一個(gè)重要步驟。 PTFE材料在化學(xué)沉積銅之前的活化（化學(xué)）處理有多種方法，但綜上所述，主要適用于批量生產(chǎn)，因?yàn)樗ＷC了產(chǎn)品的質(zhì)量，有兩種方法。 (A) 用等離子蝕刻機(jī)進(jìn)行化學(xué)處理金屬鈉和萘在非水溶劑如四氫呋喃或乙二醇二甲醚中反應(yīng)形成萘鈉絡(luò)合物。萘鈉處理液可以蝕刻孔隙中的聚四氟乙烯表面原子，達(dá)到潤(rùn)濕孔壁的目的。

結(jié)果，載玻片等離子蝕刻機(jī)材料表面得到清潔，并且可以去除油脂和輔助添加劑等烴類污染物。同時(shí)可引入幾個(gè)極性基團(tuán)（羥基、羧基），有利于膠帶膠粘劑的粘合。同樣，等離子清洗機(jī)制的處理可以顯著增加塑料零件的表面能。普通材料經(jīng)等離子清洗機(jī)處理后表面能可達(dá)60達(dá)因以上。它屬于對(duì)粘接非常有利的高表面能范圍。等離子清洗機(jī)又稱等離子蝕刻機(jī)、等離子脫膠機(jī)、等離子活化劑、等離子清洗機(jī)、等離子表面處理機(jī)、等離子清洗系統(tǒng)等。

作為參考，載玻片等離子蝕刻機(jī)標(biāo)準(zhǔn)邏輯工藝的接觸孔縱橫比通常為 4-7，但 3D NAND 接觸孔縱橫比一般在 10 以上，并隨著控制柵極數(shù)量的增加而增加。層。因此，等離子表面處理機(jī)和蝕刻機(jī)的制造商開發(fā)了高縱橫比蝕刻（HAR蝕刻）模型，以滿足3D NAND的工藝要求。該過程通常使用等離子表面調(diào)節(jié)等離子清潔器的電容耦合等離子蝕刻 (CCP) 模型來完成。

因此，載玻片等離子蝕刻機(jī)優(yōu)先考慮的是使用這種材料。隨著時(shí)間的推移，材料成本問題逐漸浮出水面，制造商開始尋找性能更好、成本更低、材料表面處理方法合適的橡塑材料。早期的非等離子清洗機(jī)表面處理方法仍是簡(jiǎn)單的磨床打磨和環(huán)保水性漆處理。實(shí)際能達(dá)到的效果非常有限，仍然難以消除。取決于材料本身的性能。之后，我選擇了氟化法。這種表面處理方法處理效果明顯提高，但產(chǎn)生大量有害氣體，廢氣處理投入成本高。

載玻片等離子蝕刻機(jī)

此外，它增強(qiáng)了表面的可膨脹性并防止了氣泡的產(chǎn)生。最重要的是，經(jīng)過大氣壓等離子清洗機(jī)的表面處理后，紙盒制造商可以以更低的成本和更高的效率獲得更高質(zhì)量和更高的最終產(chǎn)品。。近年來，許多公司都使用了等離子清洗系統(tǒng)，但很少有人知道等離子等離子清洗系統(tǒng)的其他用途。清洗技術(shù)的分類是什么？本節(jié)詳細(xì)介紹了這種便攜式等離子清洗系統(tǒng)。包括主機(jī)、與主機(jī)相連的背板，以及配置在主機(jī)上的外部保護(hù)殼。

其強(qiáng)疏水性、化學(xué)惰性、低表面能、抗?jié)櫇裥砸约芭c其他材料的結(jié)合性能差等嚴(yán)重限制了它的使用。因此，為了使聚四氟乙烯更加通用，需要對(duì)其表面進(jìn)行處理，以增加其表面能，提高其親水性。等離子處理是近年來發(fā)展迅速的PTFE表面改性技術(shù)之一。等離子體改性的原理是通過將離子撞擊或注入聚合物表面以使鍵斷裂或通過引入官能團(tuán)來提高材料表面的粘附性來活化表面。常用的氣體包括氧氣、氫氣、氮?dú)狻⑺姆己蜌鍤狻?/p>

必須接受工廠維修的設(shè)備才能完成，以防止彎曲。通過。 2、關(guān)鍵設(shè)備的管理 2.1 嚴(yán)格執(zhí)行人機(jī)聘任制度，設(shè)備操作人員必須按照有關(guān)規(guī)定接受有關(guān)部門的培訓(xùn)，方可上崗。關(guān)鍵設(shè)備操作人員已動(dòng)員，原值班人員必須工作至少7天并嚴(yán)格接班。 2.2 關(guān)鍵設(shè)備的維護(hù)和檢修應(yīng)嚴(yán)格按照原說明書進(jìn)行規(guī)劃和安排。設(shè)備配件需要足夠的備件。關(guān)鍵設(shè)備的維修成本不能超支或挪用，要保證資金和維修能力，確保關(guān)鍵設(shè)備的完整性。

輝光放電也是低溫等離子清洗技術(shù)的一種方法。冷等離子體通常被定義為部分電離的氣體，由激發(fā)的原子和分子、正離子和負(fù)離子、自由基、電子、光子等組成。整體性能是電中性的。等離子體通常分為平衡等離子體和非平衡等離子體。平衡等離子體，也稱為熱等離子體，其特點(diǎn)是所有內(nèi)部粒子都處于熱平衡狀態(tài)。事實(shí)上，電子、離子和原子要達(dá)到熱平衡需要非常高的壓力和溫度。熱等離子體的典型例子是恒星。

載玻片等離子蝕刻機(jī)